Установка ВН-2000 (-08) предназначена для получения вакуума в рабочем объеме, нанесения пленок в вакууме из проводящих, полупроводниковых и диэлектриков

3.1 Масса установки не более 350 кГ.
3.2 Габаритные размеры установки:
— стойка аналитическая 470мм х 540мм х 1600мм,
— стойка электрическая 610мм х 630мм х 1670мм.
3.3 Установка обеспечивает предельное остаточное давление (в чистой и обезгаженной) рабочей камере 5•10-4 Па.
3.4 Нагреватель в устройстве напыления обеспечивает температуру в районе подложки не менее 300 оС.
Время нагрева до температуры 300 оС не более 30 мин.
3.5 Напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя (без нагрузки) регулируется от 0,5 кВ до 4,0 кВ.
Предельное отклонение верхнего значения  0,3 кВ.
3.7 Напряжение блока питания магнетрона постоянного тока (без нагрузки) до 1 кВ.
3.8 Максимальный ток блока питания магнетрона постоянного тока — 300 мА.
3.9 Максимальный ионный ток устройства ионного травления — 100 мA.
3.10 Установка обеспечивают откачку рабочей камеры с атмосферного давления до давления 2,010 —3 Па за время не более 15 мин.
3.11 Ток пучка электронного испарителя регулируется от 0 мА до
200 мA.

3.12 Ток накала электронно-лучевого испарителя регулируется от 2 до 10А.

3.13 Ток источника резистивного испарителя 1 регулируется от 5 до 200А.

3.14 Ток источника резистивного испарителя 2 регулируется от 3 до 50А.